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ALD原子層沉積設備操作全攻略:從開機到關機的詳細步驟

更新時間:2025-03-14點擊次數:26
  ALD原子層沉積設備是一種用于精確涂層制備的高科技設備。以下是從開機到關機的詳細操作步驟:
 
  開機前準備
 
  檢查設備連接:確認水源、氣源、電源連接正常,各類管道無泄漏,各氣體閥門處于關閉狀態。
 
  檢查真空系統:查看真空泵油位、管路連接及接口密封是否良好。
 
  開機操作
 
  打開設備總電源開關,啟動控制系統,待設備自檢完成,各指示燈顯示正常。
 
  打開工作氣體閥門,調節氣體流量至設定值,并通過氣體質量流量控制器確認流量穩定。
 
  啟動加熱系統,按照工藝要求設定加熱溫度,等待加熱元件和反應腔室升溫。
 
  打開真空泵,在設備升溫過程中開啟初級泵對真空腔室進行預抽氣,使腔室壓力降至設定范圍。
 
  當腔室溫度達到設定值且壓力穩定后,進行工藝配方參數設定,包括沉積氣體種類、流量、通斷時間、反應溫度等。
 
  啟動沉積程序,觀察設備運行狀態,如壓力、溫度、流量等參數是否實時變化正常。
 
  關機操作
 
  當工藝沉積過程完成后,停止通入反應氣體,繼續通入吹掃氣體一段時間,以清除反應殘留。
 
  等待腔室溫度降至安全范圍(一般為50-100℃),可根據工藝要求在控制系統中設定降溫時間。
 
  關閉加熱系統、工作氣體閥門,停止各氣體供應。
 
  關閉真空泵,關閉設備控制系統,關閉總電源開關。
 
  對設備進行清潔和維護,記錄本次操作相關參數和情況,以便后續參考。
 
  通過以上詳細步驟,能夠正確操作ALD原子層沉積設備,確保設備正常運行,并獲得高質量的薄膜沉積效果。
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