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產品簡介
市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
產品分類
型號：AT-200M（熱原子層沉積系統）
一款市面上體積最小的原子層沉積系統ALD
一款適用于科研的經濟型原子層沉積系統ALD
一款經濟實惠的原子層沉積系統ALD
可做粉末的原子層沉積系統ALD
一款可以放入手套箱里的原子層沉積系統ALD
特別適合在高真空和水氧量極低環境下使用
技術參數：
·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm
·粉末涂層可選(容量可達~10cm^3)
·可放置2英寸x2英寸×3英寸或兩個2英寸圓片的樣品(可定制的卡盤和我們的粉末涂層選項)
·2個前驅體端口，4個可選端口 (帶有高達150°℃的熱追蹤線，HT套件至180°C)
·可升級為空心陰極等離子體(可選)通風前驅體外殼
·耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進行集成惰性氣體吹掃-標配
·全不銹鋼腔室，溫度范圍可達300°C
·靜態反應模式下可實現高覆蓋
·帶集成PLC控制的5英寸顯示屏
·包括終身軟件升級
·1年保修
可選項：真空泵，4個端口，臭氧發生器(AT-03), 瓶加熱器，QCM,遠程PC控制， ALD前驅體，手套箱，HT套件(前驅體至 180℃),起泡器，粉末噴涂機，HC等離子體。
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