CVTD 材料氣相輸運與沉積系統CVTD 材料氣相生長輸運與沉積系統，可以滿足塊體、粉末、薄膜等樣品真空 ( 保護氣氛下 ) 合成生長制備，廣泛適用于低維材料 (0D/1D/2D)、磁性材料、熱電材料、能源材料、光電材料、半導體材料，金屬材料、超導材料等材料器件生長制備，已經被全球眾多高校、科研院所和企業使用，成為眾多先進材料實驗研發的儀器。

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更新時間：2024-11-18

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薄膜、塊體樣品制備

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CVTD 材料氣相輸運與沉積系統可以滿足塊體、粉末、薄膜等樣品真空（保護氣氛下）合成生長制備，廣泛適用于低維材料（0D/1D/2D）、磁性材料、熱電材料、能源材料、光電材料、半導體材料，金屬材料、超導材料等材料器件生長制備，已經被眾多高校、科研院所和企業使用，成為眾多材料實驗研發的儀器。

CVTD 材料氣相輸運與沉積系統特點：

該系統由 CVT 和 CVD 組成，主要包括 CVT 高真空自動熔封機、真空泵組、高溫輸運和沉積生長管式爐、氣體流量控制等部分組成。其中 CVT 模塊由高真空熔封和雙溫區管式爐組成，主要用于材料樣品在石英試管中真空環境狀態下（或保護氣氛下）完成熔封封管；CVD 模塊采用雙溫區高精度管式爐，可通氣氛抽真空(選配)，，主要用于 CVT、CVD、預燒、燒結、鍍膜等。

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