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產品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設備PICOSUN R-200標準型ALD系統
標準型ALD系統
產品簡介
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產品分類| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電氣,綜合 |
PICOSUN R-200 標準型ALD系統PICOSUN®R-200 標準 ALD 系統適用于數十種應用的研發，例如IC 組件、MEMS器件、顯示器、LED、激光和 3D 對象，例如透鏡、光學器件、珠寶、硬幣和醫療植入物。它是ALD研究工具的市場。它已成為創新驅動的公司和研究機構的工具。
敏捷的設計實現了質量的ALD薄膜沉積以及系統的最終靈活性，可以滿足未來的需求和應用。的熱壁設計、獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計，可實現無顆粒工藝，適用于晶圓、3D 對象和所有納米級特征上的多種材料。得益于專有的 Picoflow™技術，即使在挑戰性的多孔，超高長寬比和納米顆粒表面樣品上也可以實現出色的均勻性。
系統配備了功能強大且易于更換的液態、氣態和固態化學物質前體源，與手套箱、粉末室和各種原位分析系統集成。無論您現在的研究領域是什么，或以后可能成為什么樣的研究領域，都可以進行高效、靈活的研究，并獲得良好的結果。
PICOSUN R-200 標準型ALD系統設備特點：
標準基板尺寸與類型
50 mm-200 mm 單晶片
156 mm x156 mm 太陽能硅晶片
多孔、通孔和高縱橫比(高達 1:2500)
工藝溫度：50℃-500℃
基板裝載：使用氣動升降機手動裝載
前驅體：液體、固體、氣體、臭氧，多達 6個源、帶 4個獨立入口。
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