等離子體增強原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強）/ AT650T（熱型）AT650T可在用戶現場升級為AT650P

AT650T可在用戶現場升級為AT650P

技術參數：

l 高達400°C

l 具有高頻率射頻的空心陰極

l 金屬密封線降低了大氣污染的風險

l 前體加熱至185°C（帶選擇性增壓）

l 4前體和多達4個有選項的共反應物

l 可選:手套箱界面或加載鎖定

l 高達6英寸或更高的基板

l 靜態處理模式下可實現高曝光

選項：

l 定制卡盤/鍍層

l QCM(石英晶體微天平)

l 為您的瓶子設計氣泡器

l 負載鎖(或手套箱接口)

l 共反應器線(MFC控制)(最多可增加2條)

l 額外加熱前體管線至185攝氏度，共4條。定制系統-請咨詢我們

客戶案例：

全球100多家用戶，多家重復購買的用戶：

哈佛大學

赫爾辛基大學（Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen）

泛林集團 (LAM) （3臺以上）

牛津大學（2臺以上， Prof Sebastian Bonilla）

國立材料科學研究所(日本，多臺)

東京大學(多臺)

早稻田大學(多臺)

西北大學(美國)

劍橋大學(英國)

萊斯大學

英屬哥倫比亞大學(加拿大)

ENS-Paris(法國、高等師范學院)

北京量子研究院

北京大學

布里斯托大學（英國）

謝菲爾德大學等等

重復購買客戶的具體運用：

1.  早稻田大學 (Waseda University) (日本東京) - 傳感器、表面改性、納米壓印光刻、先進通孔制造 (AIST) – 日本茨城縣

2.  早稻田大學 (Waseda University) (日本東京) – 系統 #2；類似應用。日本神奈川縣橫濱國立大學 (Yokohama National University)

13. 國立材料科學研究所 (NIMS) #1 (日本茨城縣) - 表面和薄膜中的聲子；原子尺度低維等離激元學；納米材料中的自旋軌道分裂

14. 國立材料科學研究所 (NIMS) #2 (日本茨城縣) - 碳納米管中的自旋相關輸運；納米間隙制造和分子輸運；石墨烯中的帶隙工程；有機晶體管

21. 私人公司 (Private Company) (美國俄勒岡州波特蘭) - TEM 樣品制備；HfO2, Al2O3, Ta2O5

22. Precision TEM (美國加利福尼亞州圣克拉拉) - TEM 樣品制備；HfO2, Al2O3

43. 私人公司 TK (Private Company TK) (日本宮城縣) - TEM 樣品制備

44. 私人公司 (Private Company) (美國俄勒岡州波特蘭) - TEM 樣品制備；HfO2, Al2O3, Ta2O5

45. 東京大學 (University of Tokyo) (日本) – 先進 ALD 工藝

93. 東京大學 (University of Tokyo) – 日本東京 – Dr. Onaya

91. 泛林集團 (LAM Research) – 美國俄勒岡州圖瓦拉丁 (Tualatin)

97. 泛林集團 (LAM) 系統 #2 – 美國俄勒岡州圖瓦拉丁

98. 泛林集團 (LAM) 系統 #3 – 美國俄勒岡州圖瓦拉丁

99. 牛津大學 (University of Oxford) – 英國牛津 - Prof Sebastian Bonilla

100. 德島大學 (Tokushima University) (日本)

101. 赫爾辛基大學 (University of Helsinki) (芬蘭) Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen

102. 應用材料公司 (AMAT - Applied Materials) – 美國

103. 牛津大學 (University of Oxford) (英國牛津)